新着情報|結晶成長やデバイスのシミュレーション【STRJapan株式会社】

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新着情報

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2018年9月6日

学会発表のお知らせ
STR グループは以下のイベントに参加し最新情報を提供いたします。
皆様のお越しをお待ち申し上げております。

International Workshop on Modeling in Crystal Growth (IWMCG-9)
日時:2018年10月21日(日)〜24日(水)
場所:Sheraton Kona Resort & Spa (Keauhou Bay, Big Island, HI)
形態:口頭発表
題名:Effect of numerical parameters on prediction of the melt flow prediction and impurity transport within a simplified and real Cz Si crystal growth process geometry with effect of transverse magnetic fields
発表者:Svetlana Demina (STR Group-Soft-Impact Ltd.,)
題名:Numerical Modeling of Effect of Thermal Stress and Heavy Doping for Behavior of Intrinsic Point Defects in Large-diameter Si Crystal Growing by Czochralski Method
発表者:Yuji Mukaiyama (STR Japan K.K.)
題名:Modeling of Bowing, Stress and Threading Disclocation Density Evolution in III-nitride Heterostructures Grown on Si Substrate (Invited)
発表者:Roman Talalaev (STR Group-Soft-Impact Ltd.,)
題名:Modeling the Effect of TaC-coated Crucible on PVT SiC Single Crystal Growth
発表者:Alex Galyukov (STR US, Inc.)
題名:Numerical Modeling of β-Ga2O3 Crystal Growth by Czochralski Method to Investigate the Spiral Formation of Crystal
発表者:Masaya Iizuka (STR Japan K.K.)

イベントの詳細は、以下リンク先をご参照ください。
https://iwmcg-9.cems.umn.edu/

2018年8月9日

夏季休業のお知らせ

平素は格別のお引き立てを賜り、厚く御礼申し上げます。
弊社の夏季休業について、以下のようにお知らせします。

夏季休業期間
8月11日(土)〜8月19日(日)

夏季休業期間中のお問い合わせについては、夏季休業期間後に返答いたします。
ご不便をおかけして大変恐縮ですが、何卒ご了承くださいますよう、よろしくお願いいたします。

2018年8月9日

他社セミナーでの発表のお知らせ
STR グループは以下のイベントに参加し、ANSYS 社の Fluent に化学反応モデルをアドオンするソフトウェア【CVDSim add-on for Fluent】の最新情報を提供いたします。
皆様のお越しをお待ち申し上げております。

【CFD セミナーシリーズ】 CVD プロセスのためのANSYS 流体解析セミナー
日時:2018年9月14日(金)13時〜17時
場所:ベルサール新宿グランド 5F コンファレンスセンター ルームC
形態:口頭発表
題名:化学反応モデルアドオンモジュールCVDSim を活用したCVD プロセスの解析事例のご紹介
発表者:飯塚 将也(STR Japan)

イベントの詳細は、以下リンク先をご参照ください。
https://www.ansys.com/ja-jp/other/ja-jp/seminar/2018/cvd

企業展示のお知らせ
STR グループは以下のイベントに参加し最新情報を提供いたします。
皆様のお越しをお待ち申し上げております。

第79回応用物理学会秋季学術講演会
日時:2018年9月18日(火)〜21日(金)
場所:名古屋国際会議場
形態:企業展示

イベントの詳細は、以下リンク先をご参照ください。
https://meeting.jsap.or.jp/

2018年2月9日

STR グループは、以下の学会や展示会に参加し、最新情報を提供いたします。

10th International Workshop on Crystalline Silicon for Solar Cells (CSSC-10)
日時:2018年4月8日(日)〜11日(水)
場所:東北大学 金属材料研究所
形態:企業広告
イベントの詳細は、以下リンク先をご参照ください。
http://www.numse.nagoya-u.ac.jp/photonics/CSSC10/main.html

The 19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy (ICMOVPE-XIX)
日時:2018年6月8日(日)〜8日(金)
場所:奈良春日野国際フォーラム
形態:企業展示および広告
イベントの詳細は、以下リンク先をご参照ください。
http://www.icmovpe.jp/

International Workshop on Nitride Semiconductors
(IWN 2018)
日時:2018年11月11日(日)〜16日(金)
場所:石川県立音楽堂/ANAクラウンプラザホテル
形態:企業展示および広告
イベントの詳細は、以下リンク先をご参照ください。
http://www.iwn2018.jp/

第8回シリコン材料の科学と技術フォーラム 2018
日時:2018年11月18日(日)〜21日(水)
場所:岡山大学創立五十周年記念館
形態:企業展示および広告
イベントの詳細は、以下リンク先をご参照ください。
http://www.ec.okayama-u.ac.jp/~dm/siforum/index.html

2017/11/20

●第26回シンポジウム「製膜プロセスシミュレーションの最前線:マルチフィジクスと非定常計算の活用
日時:2017年 11月 27日(月) 13:00〜18:00
場所:東京大学本郷キャンパス 工学部4号館3階42講義室(419号室)
内容:口頭発表
■題名 : MOCVD 法による III族窒化物ヘテロ構造成長中の応力、反り、貫通転位ダイナミクスの数値解析
発表者:向山 裕次 (STR Japan)
イベントの詳細は、以下リンク先をご参照ください。
http://www2.scej.org/cre/cvd/event.html

2017/9/13

●日本学術振興会第162委員会 第105回研究会
日時:2017年 10月 6日(金)
場所:主婦会館 プラザエフ(東京都千代田区)
内容:口頭発表
■題名 :化学反応を含む熱流体解析による窒化物結晶成長プロセスの予測と実験結果との比較検証
発表者:向山 裕次 (STR Japan)
イベントの詳細は、以下リンク先をご参照ください。
http://jsps162.jpn.org/meeting.html

2017/9/12

●半導体結晶の高品質化に関する、その場観察・XRD・シミュレーション技術セミナー
【東京会場】
日時:2017年 10月 20日(金) 10:00 〜 17:45 (18:00 〜 懇親会)
場所:丸文株式会社 本社5階 大会議室(東京都中央区)
【名古屋会場】
日時:2017年 10月 25日(水) 10:00 〜 17:45 (18:00 〜 懇親会)
場所:ウィンクあいち 11階(名古屋市中村区)
詳細は、以下リンク先をご参照ください。
合同セミナーのお知らせ

2017/9/12

●第46回結晶成長国内会議(JCCG-46)
日時:2017年 11月 27日(月) 〜 29日(水)
場所:ホテルコンコルド浜松
内容:企業展示
イベントの詳細は、以下リンク先をご参照ください。
http://www.jacg.jp/jacg/japanese/frame_main/18/jccg-46/index.html

2017/9/12

●先進パワー半導体分科会 第4回講演会
日時:2017年 11月 1日(水) 〜 2日(木)
場所:名古屋国際会議場
内容:企業展示
イベントの詳細は、以下リンク先をご参照ください。
https://annex.jsap.or.jp/adps/scrm04/index.html

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